千友環(huán)保小編了解到廢氣處理設備主要有以下幾個(gè)分類(lèi)：

吸收設備：吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對VOCs進(jìn)行吸收，再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進(jìn)行分離。含VOCs的氣體自吸收塔底部進(jìn)入塔內，在上升過(guò)程中與來(lái)自塔頂的吸收劑逆流接觸，凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過(guò)熱交換器后，進(jìn)入汽提塔頂部，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經(jīng)過(guò)溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過(guò)冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開(kāi)汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。

吸附設備：在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí)，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現象稱(chēng)為吸附。吸附處理廢氣時(shí)，吸附的對象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱(chēng)為吸附質(zhì)，多孔固體物質(zhì)稱(chēng)為吸附劑。

有機廢氣的燃燒及催化凈化設備：燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過(guò)量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時(shí)，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進(jìn)一步處理。

工業(yè)有機廢氣的低溫等離子體的治理設備：等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體，它是由美國科學(xué)家于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現象時(shí)命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成，但電子和正離子的電荷數必須體表現出電中性，這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱(chēng)為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài)，它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。

光催化和生物凈化設備：光催化是常溫深度反應技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無(wú)毒無(wú)害的產(chǎn)物，而傳統的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見(jiàn)的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是最廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

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